全自动清洗机 适用于2至6英寸晶圆的清洗工艺 6寸以下wafer全自动清洗工艺处理 适合产能要求较高的批量产线 可选配MES协议转换模块《查看更多》

清洗机 适用于5、6英寸Mask清洗工艺 可选耐腐蚀PP柜体或不锈钢柜体 自动清洗多种规格MASK掩膜光罩 可接受不同规格MASK清洗定制《查看更多》

半柜式/全柜式清洗机 适合于8英寸及以下晶圆的单片清洗工艺 根据客户要求可选配高压、兆声、二流体等多种清洗工艺 不锈钢半柜式、柜式柜体,触摸式人机交互界面 耐腐蚀透明观察窗,配置专业排风及排废系统 可配置清洗液、氮气温控功能 可配置增压泵高压清洗 高精度清洗臂,可灵活设置清洗工艺《查看更多》

清洗机 适用于5、6英寸Mask清洗工艺 可选耐腐蚀PP柜体或不锈钢柜体 自动清洗多种规格MASK掩膜光罩 可接受不同规格MASK清洗定制《查看更多》

全自动喷胶机适用于8英寸及以下晶圆的自动喷胶工艺 全封闭结构,不锈钢框架、镜面不锈钢面板 高精度旋转加热平台,具有晶圆真空吸附及自动顶升功能 供胶系统采用微小流量供液系统,流速连续平稳,流量精确可调 高精度超声波雾化喷嘴,雾化颗粒均匀,超声波雾化功率可调 触摸式人机交互界面,可实现配方编辑及运行状态监控《查看更多》

全自动/轨道式去胶剥离机 适用于8英寸及以下规格晶圆的去胶剥离工艺（Liftoff工艺） 不锈钢柜体,触摸式人机交互界面 耐腐蚀透明观察窗,配置专业排风及排废系统 8寸以下化合物（钽酸锂等）全自动去胶剥离工艺处理 适合声表滤波器（SAW）行业产能要求适中的批量产线 可选配MES协议转换模块《查看更多》

刻蚀机 适合于8英寸及以下晶圆的单片刻蚀工艺 可选耐腐蚀PP柜体 可按客户需求定制设备规格 全自动摆臂、可配备多路刻蚀液 触摸式人机交互界面,实时显示设备运行状态 可选蚀刻液加热控温及FFU功能 专用排风、排废系统、提高设备的安全性《查看更多》

全自动标准8寸匀胶显影机 适用于2至6英寸晶圆的匀胶显影工艺 最大设备配置:4套匀胶（显影）、10套热（冷）板单元 6寸以下wafer全自动匀胶/显影,烘烤全自动工艺处理 整机适合产能要求较高的批量产线 根据客户工艺需求可加装温湿度控制、离子风棒等模块 可选配MES协议转换模块《查看更多》

全自动标准2-6寸匀胶显影机 适用于2至6英寸晶圆的匀胶显影工艺 最大设备配置:4套匀胶（显影）、10套热（冷）板单元 6寸以下wafer全自动匀胶/显影,烘烤全自动工艺处理 整机适合产能要求较高的批量产线 根据客户工艺需求可加装温湿度控制、离子风棒等模块 可选配MES协议转换模块《查看更多》

轨道式匀胶显影机 适用于8英寸及以下晶圆的匀胶显影工艺 最大设备配置:2套匀胶（显影）单元、4套热（冷）板单元 可选8寸以下多种wafer尺寸全自动匀胶/显影,烘烤工艺处理 整机性价比高,适合产能要求适中的批量产线 根据客户工艺需求可加装等离子风棒等模块 可选配MES协议转换模块《查看更多》

超大型匀胶机 适用于直径450mm-2000mm的非规则重载基底匀胶工艺 可根据客户基片规格及工艺定制设备 不锈钢全柜式柜体,多级安全系统 透明观察窗,配置专业排风及排废系统 可配置自动胶臂滴胶功能 触摸式人机交互界面,可灵活设置100组工艺配方《查看更多》

大型匀胶/显影机 适用于直径450mm-800mm的非规则重载基底匀胶工艺 可根据客户基片规格及工艺定制设备 不锈钢全柜式柜体,多级安全系统 透明观察窗,配置专业排风及排废系统 可配置自动胶臂滴胶功能 触摸式人机交互界面,可灵活设置100组工艺配方《查看更多》

匀烤胶一体机 适用于8英寸及以下晶圆的匀胶烤胶工艺 可选耐腐蚀PP柜体或不锈钢柜体 配置自动供胶系统,根据客户工艺选择供胶方式 触摸式人机交互界面,实时显示设备运行状态 高精度伺服控制系统,满足匀胶工艺要求 可选配去边、背洗、光刻胶温控等功能 专业匀胶腔体,通过气流控制可有效提升工艺指标 可选配置空气净化单元（FFU）《查看更多》

显影机 适用于8英寸及以下晶圆的匀胶工艺 可选耐腐蚀PP柜体或不锈钢柜体 全自动显影摆臂,可实现显影液、去离子水、氮气的自动喷洒及吹干 根据工艺要求可选择柱形、扇形显影喷嘴 高精度伺服控制系统,性能稳定 升降式显影腔体,可有效防止显影液体的飞溅 根据工艺需求可选配显影液控温、FFU等功能《查看更多》

喷胶机适用于8英寸及以下晶圆的自动喷胶工艺 全封闭结构,不锈钢框架、镜面不锈钢面板 高精度旋转加热平台,具有晶圆真空吸附及自动顶升功能 供胶系统采用微小流量供液系统,流速连续平稳,流量精确可调 高精度超声波雾化喷嘴,雾化颗粒均匀,超声波雾化功率可调 触摸式人机交互界面,可实现配方编辑及运行状态监控《查看更多》