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本公司提供高真空腔体,客户可自行为一些实验搭建真空系统,如等离子溅射,CVD或ALD等实验,同时也可作为高真空储存箱。《查看更多》
超声波雾化是利用超声波能量将液体或是胶状法分散成微米级的颗粒,其特点为雾粒喷出的初速度较小,且分散的雾粒尺寸较均匀。MSK-SP-01A就是一超声雾化模块,含有130W,40KHz的超声波源,客户可自行搭建超声雾化制膜设备。《查看更多》
喷雾热解制膜法,是将溶液雾化后喷涂到加热的基底上,然后在基底上得到想得到的物质结构。此种材料制备方法特别适用于沉积氧化物,而且在制备透明电极的应用中已有相当长的历史。现在这种方法在制备钙钛矿型太阳能电池中得广泛用。 MSK-SP-04-LD是一款超声喷雾热解设备,它可以精确控制溶液化学计量比、雾粒的喷出速度和雾粒大小等参数。采用步进电机和微处理器来控制容积泵来精确输送溶剂。一个超声波雾化器《查看更多》
EQ-TM106膜厚监测仪是采用石英晶体振荡原理,结合先进的频率测量技术,进行膜厚的在线监测。主要应用于MBE、OLED热蒸发、磁控溅射等设备的薄膜制备过程中,对膜层厚度及镀膜速率进行实时监测。根据实时速率可以输出PWM模拟量,作为膜厚传感器使用,与调节仪和蒸发电源配合实现蒸发源的闭环速率控制。《查看更多》
VTC-600-2HD是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪,其中一个靶头采用直流(DC)溅射,可溅射金属靶材制备金属膜,另一个采用射频(RF)溅射,可溅射金属和氧化物靶材,制备金属或氧化物膜.设备上安装有薄膜测厚仪可以实时监测薄膜的厚度。此设备可制作各种单层或多层薄膜,如铁电、导电,合金,半导体,陶瓷,介电,光学,氧化物和PTFE薄膜等。而且设备体积较小操作方便,是一套理想的实验工具。《查看更多》
VTC-1RF是一款小型台式单靶等离子溅射仪(射频磁控型),配有1英寸的磁控等离子溅射头和射频(RF)等离子电源,此款设备主要用于制作非导电薄膜,特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索,它是一款廉价并且高效的实验帮手。《查看更多》
OTF-1200X-RTP-II是一款快速蒸发管式炉,专门针对于用PVD或CSS法来制作薄膜。此款管式炉炉管直径为11“ OD,炉管内载样盘可放置3“ 的圆形或2“x2“的方形基片。加热元件为两组红外灯管,分别安装在腔体的顶端和底部,其升温速率高达20?C/S 。温控系统为PID30段程序化控制,控温精度为+/-1?C。仪器面板上带有RS485接口,若仪表内配有控温软件,就可将升温程序和曲线导出《查看更多》
GSL-1800X-ZF4是一款高真空的蒸发镀膜仪,特别适合蒸镀一些对氧较敏感的金属膜,如Ti, Al 和Au等,也可蒸镀各种氧化物材料。此款蒸镀仪安装有4个蒸镀加热头.对于实验研究,这是一款镀膜效果理想并且性价比较高的实验设备。《查看更多》
GSL-1100X-15E是一款小型真空镀膜仪,特别适合蒸镀一些轻金属,如 Al. Mg, 和Li等。同时也可对样品进行镀碳处理,Z大可处理的样品直径为50mm.。《查看更多》
VTC-16-3HD是一款紧凑型CE认证的等离子薄膜溅射仪(直流普通型),基片Z大尺寸2英寸,加热温度为500度和控制面板为触摸屏模式。它可以溅射三种类型的靶材和放置样品的直径是50mm . 旋转样品台,可以依次在同一样品上涂覆三种材料,金靶,银,铜, 它可以与真空泵,不锈钢波纹管KFD25快速卸装卡箍相连用.《查看更多》
MSK-AFA-III是一款带有自动烘干功能的小型涂覆机,通过匀速地推动精密制膜器,已达到平滑和均匀的涂覆效果。仪器采用真空吸附来固定衬底,使得涂覆过程中衬底不会起褶,从而使得涂覆更加顺畅。涂覆过后,仪器上盖可对样品进行加热烘干,Z高温度可以达到200℃,控温精度为+/-1°C。此款设备特别适合于固态电解质和锂电池极片的制备。《查看更多》
可调制膜器这是一款的湿法制膜工具,可通过千分尺调节制膜厚度。操作者可通过千分尺来调节刮刀与所涂覆平面之间的间隙,此工具特别适合实验室制作电池电极,陶瓷膜前期的生瓷带及各种薄膜。此款可调制膜器的涂覆宽度可调节。《查看更多》
可调制膜器-这是一款的湿法制膜工具,可通过千分尺调节制膜厚度。操作者可通过千分尺来调节刮刀与所涂覆平面之间的间隙,此工具特别适合实验室制作电池电极,陶瓷膜前期的生瓷带及各种薄膜。《查看更多》
VTC-50旋转涂层机能够瞬间提供可控高速旋转速度,迅速将液体、胶状体等材料在衬底上成膜。由于采用铸铝结构,在高转速下运行平稳。《查看更多》
VTC-200P是一款防腐型真空旋转涂层机,机体和真空旋转盘都采用尼龙材料制作,所以仪器具有非常强的抗酸抗碱性,仪器中包括4个真空吸盘,针对于直径为10mm到6英寸。控制盒与机体分开,以便于实验操作和实验室摆放。仪器转速为500-8000rpm,分为低速旋转和高速旋转两个。同时·亚太娱乐·产品标配中配有无油泵和20ml注液器。《查看更多》
VTC-100PA真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。《查看更多》
PTL-HT高温提拉涂膜机能够提供温度高达1000℃的提拉涂膜环境,广泛用于各种高温提拉涂膜研究。例如,陶瓷类薄膜、晶体类薄膜、电池材料薄膜、特殊纳米薄膜。本机能够适应未来高温条件下成膜技术的发展需要。《查看更多》
PTL-OV5P全自动5工位恒温提拉涂膜机用于同一样件在不同液相中的多层涂膜,Z多可达到5层。本机广泛用于纳米、化工、金属等材料领域,更是广大高等院校、研究院所涂膜的理想设备。《查看更多》
PTL-MMB01恒温提拉涂膜机是专为研究液相外延薄膜而设计的,在恒温环境中,通过垂直提拉在液相中的样件而生长薄膜。《查看更多》
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